ニオブ水素化物薄膜において室温以上にわたる抵抗の温度ヒステリシスを観測

東京工業大学 笹原悠輝、
東京工業大学 清水亮太、
東北大学 大口裕之、
東京大学 小倉正平、
東北大学 折茂慎一、
東京大学 福谷克之、
東京工業大学 一杉太郎
(計画研究A01, A02, A05-1)

ニオブ水素化物薄膜の成長方位と薄膜内水素の含有量を制御し、室温よりも高い領域にまで及ぶ抵抗の温度ヒステリシスの観測に成功。

Yuki Sasahara, Ryota Shimizu, Hiroyuki Oguchi, Kazunori Nishio, Shohei Ogura, Hitoshi Morioka, Shin-ichi Orimo, Katsuyuki Fukutani, and Taro Hitosugi, AIP Advances 9, 015027, 2019, DOI:10.1063/1.5066367