極薄シリコン酸化膜により水素をヘテロ界面に局在化して界面の機能を強化

名古屋大学 後藤和泰
名古屋大学 宇佐美徳隆
東京大学(現 東京電機大学) 小倉正平
東京大学 福谷克之
(計画研究A02、A05-1)

"水素化アモルファスシリコンと結晶シリコンとの間のヘテロ界面に極薄シリコン酸化膜を導入することでヘテロ界面近傍に水素が局在してヘテロ界面の機能が向上。太陽電池の高効率化技術として期待。"

https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.150799