ナノ結晶を電子の通り道とする酸化シリコン保護膜を実現

名古屋大学 後藤和泰
名古屋大学 宇佐美徳隆
東京大学 Markus Wilde
東京大学 福谷克之
(計画研究A02、A05-1)

水素を含む非晶質膜の熱処理により、シリコン酸化膜とシリコンナノ結晶を複合化し、高い導電性と良好な保護性能を両立。多様な半導体デバイスへの応用に期待。水素による界面機能強化でさらなる高性能化も可能。

https://doi.org/10.1021/acsanm.1c03355